等离子体化学气相沉积设备有哪些特点《台风资讯》
分类:行业动态
发布时间:2023-01-06
等离子体化学气相沉积设备有两种:其一是PCVD(等离子体一般化学气相沉积),另一个是PECVD(等离子体增强化学气相沉积),它们都是在20世纪70年代发展起来的镀膜工艺。
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