化学气相沉积CVD技术简介

发布时间：2023-06-05
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化学气相沉积(Chemical lapo Depostion)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。
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