高真空磁控溅射仪全解-最新资讯
分类:公司新闻
发布时间:2022-05-11
高真空磁控溅射仪是用磁控溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。
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